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镀膜材料

镀膜材料包括一系列金属、非金属和化合物材料,我们的镀膜材料可定制制作各种种类的薄膜。根据您的定制需求,使用物理气相沉积 (PVD) 方法溅射的材料可以定制为您想要的质量水平和确切尺寸。薄膜在日常用品和高度专业化的行业中都有数千种用途。使用薄膜材料沉积技术应用于产品或组件。通常,该过程通过两大类沉积——化学沉积或物理沉积来完成。我们为所有类型的应用提供薄膜材料。我们可以制造高纯度的定制金属、合金、贵金属、稀土金属和非金属。请在下方浏览我们的高品质薄膜材料,如有任何问题,请随时与我们联系!


氮化钛(TiN)陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 2500.00

镁(Mg)靶材

纯度: 4N

¥ 500.00

氮化硅(Si₃N₄)陶瓷靶材

纯度: 3N,4N

¥ 700.00

氮化铌(NbN)陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 1000.00

氮化钽(TaN)陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 1000.00

氮化硼(BN)陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 240.00

氟化镱(YbF₃)陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 300.00

氟化镁(MgF₂)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 500.00

硫化铜(CuS)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 600.00

硫化锡(SnS)陶瓷靶材

纯度: 3N,4N

¥ 1800.00

硫化锌(ZnS)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 1000.00

钴靶材(Co)

纯度: 3N5

¥ 1000.00

二硫化钨(WS₂)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 900.00

铜靶材(Cu)

纯度: 4N,5N,6N

¥ 650.00

硫化钼(MoS₂)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 580.00

硫化铁(FeS)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 1.00

六硼化镧(LaB₆)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 200.00

二硼化镁(MgB₂)陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 1.00

钛酸铅(PbTiO₃)靶材

纯度: 3N

¥ 1.00

钼(Mo)坩埚

纯度: 3N5,4N

¥ 480.00

钨(W)坩埚

纯度: 3N5,4N

¥ 560.00

钽(Ta)坩埚 锥台

纯度: 3N5,4N

¥ 300.00